武汉抛光研磨机厂家浅谈平面抛光加工中抛光压力的主要作用

发布时间 : 2024-02-29

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   平面抛光加工中抛光压力的主要作用是什么呢？武汉抛光研磨机厂家介绍如下：
    武汉抛光研磨机厂家介绍到抛光压力的主要作用是影响工件与抛光垫之间抛光液层厚度，工件表面与抛光液之间的接触主要包括以下三种状态.滑动接触状态、半接触状态、直接接触状态。滑动接触状态时，抛光压力较小，工件表面与抛光垫之间的间隙较大，抛光液层的厚度较大，表面上的摩擦力相对较小，抛光压力稳定，从而获得工件的表面质量较好，但是，这种情况下，工件的去除率比较低，抛光效率比较差。


    在半接触状态时，抛光压力达到合适的值，抛光液层的厚度刚好，能充分发挥了其润滑作用，既能有效地生成反应物又能将反应物快速地从工件上去除，还能很好地传递压力，抛光压力稳定，因此该情况下，抛光液层模型是佳的，能获得很好的抛光质量和较高的抛光效率。在直接接触状态时，抛光压力过大，抛光垫与工件表面直接接触，两者之间几乎没有抛光液，属于固体接触，摩擦力很大，容易划伤工件表面，同时造成抛光压力的不稳定。



    武汉抛光研磨机厂家介绍到由摩擦学可以得知，当抛光压力过大时，抛光液中磨粒划过工件表面会产生较深的划痕，容易造成工件表面的划伤，同时易使工件发生翘曲，产生局部过抛现象，将使得工件表面损伤层加大，导致工件表面质量严重下降，而且抛光压力非常不稳定。抛光层间的抛光液少，摩擦力增大产生大量的热，得不到很好的润滑作用以及散热作用，产生局部温度梯度，导致化学作用增强，抛光速率加大，使抛光压力变化加大，更容易产生桔皮纹等抛光缺陷。
    所以，抛光压力是抛光过程中一个重要变量。