联系:盛经理
手机: 13657236093
电话: 13657236093
传真: 13657236093
网址:www.xxymhb.com
地址: 东西湖区田园街创通工业园
研磨设备生产厂家介绍到现在社会发展电路发展的越来越快,硅片的Haze值数对于现代半导体器件工艺的影响也越来越受到各种各样的人的不断重视,方达研磨在实验研究出精抛光工艺参数对硅片表面的影响。结果表明,随着抛光时间的不断延迟,硅的去除量也会逐渐的增大,硅片表面Haze值逐渐降低,同时抛光过程中机械作用与化学作用的协同作用对Haze值也有较大影响。
研磨设备生产厂家介绍到随着抛光液温度的降低与抛光液体积的不断减小,化学作用从而减弱,硅片表面的Haze值也随着不断减小,抛光压力的不断增大,机械作用从而起到主导的作用,硅片表面的Haze值也逐渐的降低。随着硅去除量的增大 抛光液温度的下降 抛光液体积流量的降低 抛光压力的增大 硅片表面Haze值基本是保持不变的。